TEKNOLOGI FÖR MIKROSTRUKTURER OCH INTEGRERADE KRETSAR | FFF 030 |
Technology for Microstructures and Integrated Circuits
Antal poäng: 3.0. Valfri för: E4, F4. Kursansvarig: universitetslektor Mats-Erik Pistol, mats_erik.pistol@ftf.lth.se. Förkunskapskrav: FTF grundkurs F eller Halvledarfysik E. Prestationsbedömning: skriftligt prov. Betygsskala: 3.0 (0.1) 6.0. För betyg fordras godkänd laborationskurs.
OBS! Kursen kan komma att ges på engelska.
Innehåll
Kursen avser att ge de fundamentala grunderna för tillverkning av integrerade kretsar främst kisel. Hela kedjan från sand till transistorer behandlas. Följande moment ingår:
Framställning av enkristaller: fasdiagram, fördelningskoefficient ect.
Epotaxiprocesser: Gasfas-, vätskefas och molekylstråleepitaxi.
IC-teknik: Oxidation, CVD-teknik, diffusion, etsning, litografi ect.
Då datorsimuleringar kan bli en allt viktigare del av kretstillverkningen, ingår ett antal datorövningar vari olika processteg exempelvis oxidering av kisel simuleras och jämförs med laborationsresultat.
Avslutningsvis behandlas ett antal "nya" komponenter typ mikro-elektromekaniska system (nano-motorer o.dyl).
Litteratur
Sze, S. M.: Semiconductor Devices, Physics and Technology. John Wiley & Sons, 1985 och stencilerat material.